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第983章 光刻机流片成功(第3页)

而第四代的光刻机,在节点达到了28nm之后。

想要进一步缩小,依靠单次曝光,已经是无能为力了。。。。。。

故此的,产业界开始采用多次曝光,或者是刻蚀来实现缩小制程。

其中,最关键的两种工艺是双重曝光技术,以及自对准双重成像技术。

所谓的双重曝光,采用的技术就是,前后曝光不同图形叠加,来实现更小,更精细的制程。

这种方法的优点是可以实现更高精度,缺点是增加了成本和工艺,且对叠加精度要求较高。

相较之下,自对准双重成像技术则容易得多,同时可以实现精度提高一倍。

但是这种办法,也是有一个非常明显的缺点。

那就是设计工程师,设计出来的版图必须符合一定的规则。

换而言之。。。。。。

只有符合一定规则的设计,才适合使用自对准双重成像技术。。。。。。。

正是因此的。。。。。。

全世界,各个光刻机工厂,才是会如此的头疼。。。。。。

对于这个技术,只能叹息着。。。。。。

毕竟。。。。。。

两个办法,各有优劣。。。。。。。

但是,第四代的光刻机,的确是走到了尽头。。。。。。

而第五代的光刻机,却是被彻底的垄断了。。。。。。

想要打破垄断,就只能想办法,实现技术上的突破。

创造出来。。。。。。

属于自己的极紫外线光刻机。。。。。。。

然而,这里面的难度,又岂是那么轻松,就能突破掉的??

若是真的有那么简单,这个技术,就不会困扰全球的光刻机市场,这么多年了。。。。。。

心中叹息。。。。。。

林墨随后的,就是拨通了李市首的电话。

随着电话拨通了之后,李市首的声音响起。

“哈哈!林先生,您有什么事情吗?”

“嗯,李市首,我是来通知你一件事的。”

林墨淡漠的道。

“我研究所的光刻机,流片成功了,制造出来的芯片,良品率,98%。。。。。。”

“多。。。。。。多少?!!”

这一刻,李市首直接的,失声喊道。

神色,更是惊愕不已!

对此,全然不敢相信!

“98%??!!”

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